公司成立于2021年，专注研发生产半导体行业先进制程所用的ArFi/ArF/KrF级别光刻胶的核心主材料，已通过ISO9001、ISO14001体系认证；累计申请30项海内外专利；主营产品市场占有率国内第一，是南大光电、苏州瑞红等企业供应商。主导产品“浸没式ArFi光刻胶用光致产酸剂PAG”是国家半导体光刻胶产业链强链补链产品；填补了国内空白，配合国内光刻胶龙头客户完成累计40余款ArFi/ArF核心材料的研发突破；首创ppb级别金属离子及超高纯度控制技术，实现了纯度可达到99.5%以上；湿度控制可达到0.1%级别，32种金属离子含量低于10ppb，且单一产品金属杂质总含量低于50ppb。